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聲屏障基本設計原理的剖判,1.聲屏障的水平位置盡可能的的靠近聲源,這樣有利于加聲屏障的陰影區(qū),從而提高其聲衰減噪音的作用。 13833648003

聲屏障基本設計原理的剖判

來源:聲屏障http://www.0717f.cn/ | 發(fā)布時間:2019/2/26 | 瀏覽次數:

     聲屏障基本設計原理的剖判。

    1.聲屏障的水平位置盡可能的的靠近聲源,這樣有利于加聲屏障的陰影區(qū),從而提高其聲衰減噪音的作用。
    2.聲屏障安裝設備越高,其陰影區(qū)域就越大,對噪音的衰減作用也就越大,這是顯而易見的,但聲屏障過高,可能會帶來結構、環(huán)境和造價等諸多問題,所以聲屏障本身不可能建造得太高,在設計聲屏障時應該因地制宜,利用地形地貌,提高聲屏障的有效高度,以小的代價,獲取好的效果。
    3.聲屏障的形式對聲衰減的效果也有很大的影響,如果在聲屏障的頂端向聲源方向伸出一個弧形折角,就相當于將整個聲屏障向聲源方向移動,可以有效地增加陰影區(qū)域的深度和面積。文章來源聲屏障http://www.0717f.cn/。

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